NEXUS IBE(Ion Beam Etch) 시스템

다양한 에너지 및 공정 각도에 걸쳐 최고의 균일성 발휘

EXUS® IBE™ 이온 빔 식각 시스템으로 슬라이더 수율을 극대화하고 탁월한 이온빔 식각 균일성을 얻을 수 있습니다. The IBE System offers unsurpassed uniformity over a wide range of energy and process angles, making it ideal for etch depth control of next-generation ABS step and cavity processing.

타의 추종을 불허하는 균일성과 우수한 식각 깊이 제어 성능 발휘
최고의 throughput과 컴팩트한 배치도로 소유 비용이 저렴
세계 정상급 NEXUS 하드웨어 및 소프트웨어 플랫폼에서 보편적인 기술과 손쉽게 통합 가능
NEXUS Ion Source improves etch uniformity and process repeatability
공정 규격상 RF350 소스를 사용하는 작업인 경우 RF350 소스와 함께 사용 가능
Platform can be cost-effectively field-upgraded to NEXUS Ion Source