초자외선(EUV) 리소그래피는 빠르게 성장하는 현실입니다. 초자외선(EUV)이 지원하는 전례 없는 나노스케일 장치는 Veeco 기술에 의해서만 가능한 극도의 포토마스크 정밀도를 요구합니다. IC(집적 회로) 피처 크기가 축소됨에 따라, 이를 제조하는 데 사용되는 설계도 축소됩니다. 보다 미세한 형상을 지원할 수 있는 포토마스크를 제조하려면 혁신적인 사고가 필요합니다. 우리가 함께 대용량 생산 솔루션을 만들 수 있습니다.
복잡한 패턴
포토마스크(Photomask)는 IC 디자이너의 비전을 개념에서 현실로 실현시킵니다. 장치 노드를 축소하면 포토마스크(photomask)부터 시작하여 패턴 공정에 어려움이 더해집니다. 당사는 계획적인 협업을 통해 당사의 도구와 시스템을 맞춤화해서 결함 없는 포토마스크를 제공할 수 있습니다.
